公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
内又称光掩模版、掩膜版，英文名称 MASK 或PHOTOMASK），光刻板，材质：石英玻璃、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上，被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，其生产加工工序为：曝光，显影，去感光胶，Zui后应用于光蚀刻。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻胶又称光致抗蚀剂，将掩膜板上的图形转移到晶圆表面顶层的光刻胶中，并在后续工序中，保护下面的材料（刻蚀或离子注入）。光刻胶由感光树脂、光引发剂、添加剂、溶剂等组成，其中，感光树脂是光刻胶作用的关键组分。
光刻板业内又称光掩模版、掩膜版，光罩，英文名称 MASK 或PHOTOMASK），材质：石英玻璃、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃或者苏打玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶。在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精i确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构，称为光刻掩模版。
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